Фотолитографический метод создания тонкопленочных ВТСП...

Фотолитографический метод создания тонкопленочных ВТСП структур: Лабораторный практикум

Сычев С.А., Серопян Г.М., Позыгун И.С., Семочкин В.В.
Koliko vam se sviđa ova knjiga?
Kakav je kvalitet fajla?
Preuzmite knjigu radi procene kvaliteta
Kakav je kvalitet preuzetih fajlova?
Материал соответствует Государственному образовательному стандарту по специальности 010400 ''Физика''. Даются представления о фотолитографическом методе создания тонкопленочных структур с использованием метода сухого травления и, в частности, микроструктур из тонких ВТСП пленок для изготовления элементов сверхпроводящей криоэлектроники. Может быть использован студентами других специальностей
Godina:
2004
Izdavač:
Изд-во ОмГУ
Jezik:
russian
Strane:
14
Fajl:
PDF, 267 KB
IPFS:
CID , CID Blake2b
russian, 2004
Preuzeti (pdf, 267 KB)
Konvertovanje u je u toku
Konvertovanje u nije uspešno

Najčešći pojmovi